某半导体技术手工制造企业主因晶圆进行维护清洁工艺流程导致含氨废水治理 工艺，排水量200吨/天。废水治理 工艺中除氯离子外还含带氟化物和少量血本属，治理 难易度大。立即排污标淮让氯离子＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 化工废水材料及特征 晶圆的清洗废渣（关键源）：含氟化物200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀程序生活污水：含少量铜、镍等高价属，pH值冲击大 CMP磨细废水处理方法：含硅颗粒剂及化学需氧量 鑫霖环保步骤步骤 选取"无机化学放置+膜分割+折点氯化"搭配组合加工过程： 预工作 ：添加CaCl2除氟，调整pH在7.5-8. 反渗透装置设计 ：剔除0.01μm上面颗料物 反固化高浓 ：将挥发酚精提至1000mg/L上面的 折点氯化 ：高精度保持氯加药量，将氧化还原电位转化成为氦气 阳离子传递 ：有保障天价属符合标准 从而成效 氟化物平衡＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属分子量高于论文检测限 水使用率达75% 活性污泥有量限制40%