某半导存储芯片研制厂在晶圆加工制作过程中 中，用硅烷进行硅外加生长的，尾气排放干洗塔发生高酸度含硅工业废水整理工艺。工业废水整理工艺体现了pH上下波动大（2-11）、硅含量的高的亮点，传统型整理的方式易存在硅垢阻塞困难。 废污水成份及來源 污水重要化学成分为： 可溶性高，溶于水的性硅酸盐 ：SiO₂溶液浓度达1000-1500mg/L 磷酸/氢氧化的钠 ：干洗塔强酸强碱干洗液残余物 颗粒物硅 ：微米级SiO₂胶体溶液 痕量砷 ：配料沉渣带往 整理加工过程流量 什么是创新用"两极结合+膜滤出+蒸馏心得"工艺流程： 第一与 ：用CaO改善pH至4-5，合成硅酸钙沉垫，硅清除率60%。 中级结合 ：加Na₂CO₃将pH加强至9，进步积累用不完硅，电容串联用镁剂除砷。 反渗透装置系统软件 ：0.02μm淘瓷膜过虑微米级硅颗粒物，通量稳定性在80LMH。 MVR汽化器 ：浓缩造成高盐废水处理方法，沉淀出Na₂SO₄副货品，水循环率超90%。 决定成果 总硅从1500mg/L降下来5mg/L下面的 砷含量从0.8mg/L低于0.01mg/L 系统无水垢作业可超过2年 每一年收废氢氧化钠钠多晶体约800吨