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电子半导体废水处理案例|电子半导体废水处理方法

华东某LED外延性片的制造厂家,因的制造历程中安全使用砷化镓、酸洗铟等III-V族化学物质,废河中含砷(As)、镉(Cd)、铅(Pb)等巨资属,设计治理 大小1200吨/日。 生产废水因素及來源 MOCVD专用设备清理工业废水 :含三甲医院医院基镉、三甲医院医院基铟等有机会铝合金类化合物 切割器机磨废水处理 :含纳米技术级金属件顆粒 真空电镀化工废水 :含铜、镍等金属制化合物 工作方法流程步骤 改革创新通过"氧化反应破络+血本属收集+膜分離"组成工艺技术: 预操作机组 :污泥脱水亚硫酸氢钠工业制硝酸有机物金属材质络合物 价值体系除理单无 : 施用DTCR高价属收集剂型成不溶解性螯合物 超滤膜系统(UF)截流大原子污染破坏物 反侵入(RO)脱盐率>98% 飞灰解决标段 :离心法缺水后交予危废操作操作平台处治 不可能使用效果 经第3方在线检测: 总砷分量:0.05mg/L(国家标准下载0.5mg/L) 镉含量的:0.01mg/L(国家行业标准0.1mg/L) 水循环率:75% 运转总成本:3.8元/吨水

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